Beim durchehen des Ch3 haben sich mir folgende Fragen gestellt. (Es haben sich mir viel mehr Fragen gestellt, manche konnte ich mir glücklicherweise schon selbst beantworten ) Ich habe sie nach auftreffen in der Präsentation (Seiten) aufgelistet.
Ch3p4:
- „the technology of radiation production has first aimed toward higher photon and electron beam energy and intensities“
„als Erstes“ im Verhältnis wozu? - Soll die Grafik rechts unten ein Beispiel für einen instabilen Strahl sein? Denn so macht sie keinen Sinn, da der Photonenstrahl nicht das Betatron verlässt. Oder soll das „Fenster“ was anderes darstellen?
Ch3p47:
- focusing coils: Wo werden focusing coils verwendet? Sind sie so wie die Steering Coils auf der „Geraden“ zwischen Wave Accelerator und Bending Magnet positioniert? Werden als Focusing Coils Quadrupolmagnete verwendet?
- Grafik: Stellt das Zeugs „unter“ dem Flattening Filter den Dose Monitor (Erklärung p 89) mit Rückkopplung zu den Steering Coils dar? Der zweite Unterpunkt bei der Erklärung der Focusing Coils impliziert dass es sich bei dem „Zeugs“ um FocusingCoils handelt. Das wird aber nirgens anders beschrieben und im Gegensatz dazu steht auf p90 dass das dose monitor system den electron beem steuert
Ch3p50/51:
- Bending Magnets: bei 270° sowie 3x90° - kreuzen sich Elektronenstrahl und Photonenstrahl tatsächlich oder wirkt das nur in der 2D darstellung so? Interferieren die Strahlen nicht miteinander?
Ch3p54:
-target filter - ist damit einfach das target gemeint? ich hätt noch nicht von einem Zuätzlichen Filter gehört der beim target ist (außer die Schicht mit niedrigem Z um die e- rauszufiltern… )- meiner Meinung nach gehört da einfach „target material and flattening filter …“
- „… have a deleterious effect“ - ist hier deleterious (d:schädlich) tatsächlich die richtige Wortwahl und sollte es nicht vl „essentiell“ oder so heißen?
Ch3p58:
- What is R_P ? … gute Frage
Auf p 124 erfährt man dass es sich wohl um die Eindringtiefe der Elektronen im Wasseräquivalent (Phantom,…) bei der der Prozentsatz P der Maximaldosis herrscht handelt, was P ist bleibt unbekannt.
Ch3p56:
- „[the flattening filter] works as a scatter source located 7-15 cm closer to the patient.“ häher als was? als das Target?
Ch3p71:
- flattening filter & profiles: Werden für die unterschiedlichen MV die selben flattening filter verwendet, oder werden die (wie auch das target) für die MV spezifisch ausgetauscht?
Ch3p73:
- ? wie sind die Grafiken zu lesen?
Ch3p87:
- dose monitor chamber: Wird mit monitor chamber e- oder photon flux kontrolliert? Ist hinter den Target angeordent, dh es müsste demnach photon sein. Wenn aber kein Target verwendet wird müssen e- gemessen werden → Ist das Messen von Photonen sowie e- in einer Ionisationskammer mit ähnlicher (zumindest ausreichender) Genauigkeit möglich?
- Wird bei Photonen-Betrieb (mit Target) der e- flux (vor dem auftreffen auf das Target) irgendwie kontrolliert, oder geschieht die Rückkopplung ausschließlich über den Photonenstrahl?
Ch3p93:
- „They [Secondary Collimators] have a quite complex focused design.“ Soll das Heißen, dass das Design kompliziert ist, oder dass was sie shapen sollen kompliziert ist? Die Aussage passt auf alle Fälle nicht damit zusammen dass sie ja nur rechtwinkelige Felder erzeugen können.
Das Bild in der Mitte hat jedoch tatsächlich ein „komplexes Design“, was man damit erreichen mag is mir jedoch grad schleierhaft.
Ch3p97:
- Grafik unten: Distanz wozu? Warum schwankt Leakage (mehr oder weniger) periodisch? den Abstand der peaks kann man mit der Kollimatorbreite von 10mm erklären, aber die unterschiedliche höhe nicht…
Ch3p102:
- vs Grafik von Ch1p8: Warum hat 150kV XRay eine höhere Eindringtiefe als 250kV XRay? oder ist % der Oberflächendosis bei 250kV um so vieles höher dass das Verhältnis den Anschein verfälscht?
Ch3p106:
- „linac output spectra“- ist damit jetzt e- oder bereits photon beam gemeint?
Ch3p108
- „superficial and orthovoltage X-Ray“ sind das nicht nur zwei verschiedene Bezeichnungen fürs gleiche Verfahren?
Ch3 p118:
- „CAX“ … center axis ?
Ch3p120:
- SAD ?! … - source - ?- distance ?
Ch3p121:
- S_{CP} … ? S_C … ?S_P … ? … head and phantom scatter factor - aber welcher ist welcher und wofür könnte das C stehn ?
Ch3p122:
- "equivalent square approaches " ? was ist damit gemeint?
- " it is attributed to the flattening filter" ?!
ch3p125:
- Siehe Frage Ch3p58
ch3p126:
- „About 90% of bremsstrahlung contamintation generated by the linac and only 10% by the irradiated medium.“
by the linac- ist damit alles vor dem Auftreffen am Patienten/Phantom gemeint ?
by the irradiated medium- Streustrahlung in Patient/Phantom ?